1、芯片的原料晶圓
晶圓的成分是硅,硅是由石英沙所精練出來的晶圓便是硅元素加以純化 (99.999%) ,接著是將些純硅制成硅晶棒,成為制造集成電路的石英半導(dǎo)體的材料,將其切片就是芯片制作具體需要的晶圓。
2、晶圓涂膜晶圓涂膜能抵抗氧化以及耐溫能力,其材料為光阻的一種
3、晶圓光刻顯影、蝕刻該過程使用了對紫外光敏感的化學(xué)物質(zhì),即遇紫外光則變軟。通過控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片涂上光致抗蝕劑,使得其遇紫外光就會溶解。
這時可以用上第一份遮光物,使得紫外光直射的部分被溶解,這溶解部分接著可用溶劑將其沖走。這樣剩下的部分就與遮光物的形狀一樣了,而這效果正是我們所要的。這樣就得到我們所需要的二氧化硅層
4、攙加雜質(zhì)
將晶圓中植入離子,生成相應(yīng)的P、N類半導(dǎo)體。具體工藝是是從硅片上暴露的區(qū)域開始,放入化學(xué)離子混合液中。
這一工藝將改變換雜區(qū)的導(dǎo)電方式,使每個晶體管可以通、斷、或攜帶數(shù)據(jù)。簡單的芯片可以只用一層,但復(fù)雜的芯片通常有很多層,這時候?qū)⑦@一流程不斷的重復(fù),不同層可通過開啟窗口聯(lián)接起來
這一點類似多層PCB板的制作制作原理。更為復(fù)雜的芯片可能需要多個二氧化硅層,這時候通過重復(fù)光刻以及上面流程來實現(xiàn),形成一個立體的結(jié)構(gòu)。
5、晶圓測試
經(jīng)過上面的幾道工藝之后,晶圓上就形成了一個個格狀的晶粒。通過針測的方式對每個晶粒進(jìn)行電氣特性檢測。
6、封裝
將制造完成晶圓固定,綁定引腳,按照需求去制作成各種不同的封裝形式,這就是同種芯片內(nèi)核可以有不同的封裝形式的原因。
7、測試、包裝
經(jīng)過上述工藝流程以后,芯片制作就已經(jīng)全部完成了,這一步驟是將芯片進(jìn)行測試、剔除不良品,以及包裝。